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Advantech U.S. 董事長潘仲光

　　OLED被認為是下一代顯示技術，近年來發(fā)展迅猛，但在OLED蒸鍍過程中仍然存在很多問題。Advantech U.S. 董事長潘仲光先生出席2016中國國際OLED產業(yè)會并發(fā)表主題演講，圍繞OLED蒸鍍問題分享了Advantech U.S.的解決方案。

　　據介紹，2005年潘仲光在美國匹茲堡同有源平板發(fā)明人Brody博士一起成立Advantech U.S.公司，主要研發(fā)OLED顯示屏TFT、加法電路印刷技術。經過十一年的研發(fā)，Advantech U.S.公司在蔭罩制作、對準科技、張網技術、蒸鍍工藝技術及蒸鍍設備等方面都取得了較大的突破以及成績。Advantech U.S.公司的加法電路印刷技術也成功成為美國下一代超級計算機或俗稱量子電腦中超導電路的重要技術。2015年潘仲光先生將相關的技術引進國內，開始涉足并協(xié)助中國OLED同業(yè)解決蔭罩技術問題。

　　“目前OLED存在很多蒸鍍問題，如沉積越界陰影效應、無法超越600ppi、孔洞尺寸誤差太大、孔洞矩陣扭曲不齊、蔭罩大等問題。”潘仲光介紹：“而Advantech U.S.公司的蔭罩反光非常好，CCD對準速度快。2014年我們公司蔭罩厚度為20um，ppi達到635；2015研發(fā)出15 um、ppi達到847的蔭罩，2016上半年已經做出10um、1270ppi的蔭罩。”

　　在張網技術上，Advantech U.S.公司擁有相關專利，其張網設備主要針對蔭罩張網平整設計，可以自動調整且可進行精準張網，可實現不超過3微米的精度。潘仲光預計，2018年第三代技術將3分鐘內實現1微米的精度的工藝流程，也將大大降低OLED生產成本。同時，潘仲光介紹，Advantech U.S.公司的蔭罩以及張網技術提供模塊化調整之后也可以解決大尺寸OLED的制程。