第二屆國際背光技術(上海)展覽會
The 2nd International Backlight Technology (Shanghai)Expo
展覽時間：2013年5月22日至24日
展會地點：上海世博展覽館
主辦單位：正亞展覽機構
組織單位：上海富亞展覽有限公司、廣州正亞展覽有限公司、臺灣光電半導體產業協會
同期舉辦：第九屆國際模切(上海)展覽會
展會網址：blu.zyexpo.com
[亞洲唯一背光技術展]
在顯示技術不斷進步的今天，背光技術的高性能(高亮度化、輕薄化、高效節能等)已成當今龐大顯示行業主流應用技術。從大中小尺寸的顯示產品如手機、PDA、數字相機(DSC)、車載顯示器、液晶顯示器、液晶電視等已普及應用，再到超薄廣告燈箱行業的背光技術延伸應用，無不顯現背光技術的魅力身影。
"第二屆國際背光技術(上海)展覽會，簡稱「APFE2013上海展」，將于2013年5月22-24日在上海世博展覽館舉辦，是亞洲唯一背光技術展，將面向顯示背光模組，超薄燈箱等行業全方位面展示導光板、光學膜、光源、組裝、檢測及加工技術的專業大展，同期與“第九屆國際模切展（全球最大）”隆重開展，涉及展覽總規模達18,000平方米，600多家展商預計將有來自國內外超過20,000人次的專業觀眾到場參觀。2013年5月的上海，我們盛情邀請您以參展、參觀、采購、交流合作等各種形式來到[APFE2013]！
[展會背景]
上屆「背光技術展」已于上海世博展覽館成功舉辦，成為全球首創的背光技術展，得到國內外背光技術領域品牌企業大力支持，如英國TEKNEK、韓國樹研光學、德國亞德科、美國輻深、韓國FILEMAX、PROTEM、HI-LAND、WELL、SEKISUI、FUJI SHOKO、臺灣郡威、日本MEGARO、香港君凌、岱棱、佑順發、豪晶、旌陽、SYSCO、東芝、康得新、布雷德、菲斯特、民特英、賽德、德龍、中電二所、福和達、富鑫林等上百家企業參展。大會共接待來自終端電子制造商、手機、電腦、家電、面板、背光模組、顯示模塊、導光板、光學膜材料商、精密模切、超薄燈箱等相關光電顯示制造商將近20,000名觀眾到場參觀，成為光電顯示行業設計開發、貿易合作、產品采購和技術交流的高效對接平臺。
一、展覽范圍
◆背光部件/材料
◆背光技術設備
◆化工產品：
◆其他：背光源驅動IC,設計與解決方案等科研機構及背光模組、超薄廣告燈箱。
二、展位規格及參展收費標準
1、國際標準展位：9m2（3m×3m）分設T 區（國際區），A 區（國內區）；
A 區：國內企業RMB 9800/展位 ：國內企業RMB 1000/m2/展期光地
T 區：國際展區USD 2000/展位 ：國際展區USD 200/m2/展期光地
[APFE2013]-聯絡機構：
正亞展覽有限公司（背光展始創者）
電話：021-33518235/6/7轉206
傳真：021-33518235/6/7轉226
聯系人：慕宇 15221822855
E-mail:zyexpo@vip.126.com
網址：blu.zyexpo.com
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